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LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機械手，也可以升級...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

NPC-3500（A）研發(fā)用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠...

研發(fā)用等離子去膠機：Alpha等離子系統(tǒng)ASTRO96是一款低壓微波等離子系統(tǒng)，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片清洗。ASTRO96...

Q240微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

Q235微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

Q150微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為...

ASTRO96全自動微波等離子清洗系統(tǒng)：Alpha等離子系統(tǒng)ASTRO96是一款低壓微波等離子系統(tǒng)，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片...

AL76C立式微波等離子去膠清洗機：AL76C為一體式緊湊型等離子系統(tǒng)，適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實驗室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機：AL76等離子系統(tǒng)適用于批量生產(chǎn)，也可以i滿足研發(fā)及實驗室應(yīng)用。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要、工業(yè)、醫(yī)藥等領(lǐng)域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機：AL18等離子系統(tǒng)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的*設(shè)備。并且，此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備，...

NIE-3500（M）離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、...